光亮退火炉是一种新型换热设备。光亮退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。加热方式有电加热、燃油、燃气、燃煤、热风循环。

光亮退火炉的用途： 

1、能够有效的改善钢铁在铸造、锻压、轧制或者是焊接过程中所造成的缺陷和残余应力，能够防止工件的变形和开裂。

2、光亮退火炉作用还可以对软化工件以便进行切削和加工。

3、将晶粒细化，改善组织来提高工件的机械的性能。

4、可以为最终的淬火、回火点步骤的热处理做好准备。